真空镀膜pvd的工艺流程 pvd真空镀膜工艺流程

1.基材清洗

首先需要对基材进行清洗，以去除表面的污垢、油脂等杂质，保证后续的镀膜质量。清洗方法包括机械清洗、化学清洗、超声波清洗等。

2.预处理

预处理是为了增强基材表面与蒸发材料的结合力，一般采用化学气相沉积或离子束处理等方法。

3.蒸发材料加热

将蒸发材料放置在加热器中，通过加热器加热，将蒸发材料加热至一定温度，使其蒸发成气态，通过真空泵将蒸汽抽出，形成真空环境。

4.蒸发材料沉积

在真空环境中，蒸发材料会沉积在基材表面上，形成一层薄膜。薄膜的厚度和性质可以通过控制蒸发材料的温度、压力和沉积时间等参数来调节。

5.后处理

沉积完成后，需要对薄膜进行后处理，以提高其质量和稳定性。后处理方法包括退火、离子束辐照、化学气相沉积等。

6.检测

最后需要对沉积完成的薄膜进行检测，以确保其质量符合要求。检测方法包括透射电子显微镜、X射线衍射仪、扫描电子显微镜等。